| Titre de série : |
Silicon processing for the vlsi era, vol 1 |
| Titre : |
Process technology |
| Type de document : |
texte imprimé |
| Auteurs : |
Wolf, Stanley, Auteur ; Tauber , Richard N, Auteur |
| Mention d'édition : |
2 éd |
| Editeur : |
Lattice Press |
| Année de publication : |
2000 |
| Importance : |
XXXVI-890 P |
| Présentation : |
ill. |
| Format : |
25 cm |
| ISBN/ISSN/EAN : |
978-0-9616721-6-4 |
| Note générale : |
Bibliographie en fin de chapitres. Index |
| Langues : |
Anglais (eng) |
| Mots-clés : |
Electrotechnique circuit intégrés intégration silicon vlsi |
| Index. décimale : |
621.3.049.77 Micro-électronique.Circuits intégrés. |
| Note de contenu : |
Summary:
1.Silicon: single-crystal growth & wafer preparation
2.Crystalline defects and gettering
3.Vacuum technology for ulsi applications
4.Basics of thin films
5.Cleaning technology for ulsi
6.Chemical vapor deposition of amorphous and polycrystalline films
7.Silicon epitaxial film growth
8.Thermal oxidation of silicon
9.Diffusion in silicon
10.Ion implantation for ulsi
11.Aluminum thin films and physical vapor deposition in ulsi
12.Lithography I: optical photoresists - material properties and process technology
13.Lithography II: optical aligners and photomasks
14.Dry etching for ulsi
15.Multilevel metallization for ulsi
16.Cmos process integration
17.Assembly and packaging for ulsi appendices |
Silicon processing for the vlsi era, vol 1. Process technology [texte imprimé] / Wolf, Stanley, Auteur ; Tauber , Richard N, Auteur . - 2 éd . - Lattice Press, 2000 . - XXXVI-890 P : ill. ; 25 cm. ISBN : 978-0-9616721-6-4 Bibliographie en fin de chapitres. Index Langues : Anglais ( eng)
| Mots-clés : |
Electrotechnique circuit intégrés intégration silicon vlsi |
| Index. décimale : |
621.3.049.77 Micro-électronique.Circuits intégrés. |
| Note de contenu : |
Summary:
1.Silicon: single-crystal growth & wafer preparation
2.Crystalline defects and gettering
3.Vacuum technology for ulsi applications
4.Basics of thin films
5.Cleaning technology for ulsi
6.Chemical vapor deposition of amorphous and polycrystalline films
7.Silicon epitaxial film growth
8.Thermal oxidation of silicon
9.Diffusion in silicon
10.Ion implantation for ulsi
11.Aluminum thin films and physical vapor deposition in ulsi
12.Lithography I: optical photoresists - material properties and process technology
13.Lithography II: optical aligners and photomasks
14.Dry etching for ulsi
15.Multilevel metallization for ulsi
16.Cmos process integration
17.Assembly and packaging for ulsi appendices |
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